该公司还表示,计划将其全资子公司 SK Hynix System IC 的生产转移至中国来降低成本。公司预测,2021 年全球对 DRAM 以及 NAND……
此种防护膜主要用于安装在 EUV 光路和晶圆制造空间之间,用于防尘。此前的防护膜透光率仅有 78%,然而一片的价格高达 26000 美元
据国外媒体报道,韩国媒体在本周早些时候的报道中称,三星电子在美国新建芯片工厂的计划,预计会在本月底宣布
EUV 光刻用于晶圆厂的芯片生产,它使用一个巨大的扫描仪在高级节点上对芯片的微小特征进行图案化
荷兰阿斯麦的新一代极紫外(EUV)光刻机每台有公共汽车大小,造价 1.5 亿美元。其前所未有的精度可以让芯片上的元件尺寸在未来几……
半导体行业观察:EUV光刻机真可以称得上是芯片制造的“皇冠”。
据业内透露,截至第二季度,ASML EUV 设备出货总量达到 102 台,随着需求量的提高和客户群的扩大,预计 2 年内累计供应量将增加……
近日,中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心在极紫外光刻基板缺陷补偿方面取得进展。中国科学院消息显示,微电子所研……
全球最大存储芯片制造商三星电子周二宣布,该公司开始使用极紫外光刻(EUV)技术批量生产业界最小的 14 纳米 DRAM 芯片,这有助……